デジタルマスフローコントローラ
形 F4Q

CEKC

デジタルマスフローコントローラ 形 F4Qは、検出部に弊社独自開発の「微小熱式流速センサ」を搭載した高性能デジタルマスフローコントローラです。ひとめで制御状態が分かる大型LEDと、詳細に制御状態が分かる液晶表示器を搭載。 広い流量域で精度を向上。新たな機能を追加し流量制御の課題を解決します。



製品紹介動画

製品紹介動画


ひとめで制御状態を把握

大型LEDランプの色と点滅でひとめで制御状態を把握できます。
情報量の豊富な高精細液晶表示器で詳細な情報を把握できます。

制御状態を把握

精度1% SPを広い流量域で

高流量域から低流量域まで高精度で制御できます。
広い範囲で設定流量を変更する用途に適しています。

広い流量域

0.3sの高速応答を広い流量域で

「全閉から制御開始時」「設定値変更時」とも同様に高速応答を実現しています。
複数のガス流量を同時に変更する場合もガスの比率を維持できます。

高速応答

低圧ガスも制御できる低差圧構造

圧力損失の小さなストレート流路構造です。
燃料ガスなどの低圧で供給されるガスも制御できます。

従来の構造

従来のマスフローの構造

F4Qの構造

形 F4Qの構造


-10℃~60℃の広い温度域で使用可能

冬の寒い室内から熱い工業炉の周辺まで使用可能です。
温度変化が大きくても、計測値への影響が抑えられています。

広い温度域

アプリケーション

ロウ付け・ガラス加工

ロウ付け・ガラス加工
高速応答なので火力変更時に火炎が瞬時に安定します。 品質安定とタクトタイム短縮に貢献します。

ガス切断

ガス切断
高速応答なので元圧が変動しても流量への影響がわずかです。 火炎が安定し切断品質が向上します。

MLCC焼成炉

MLCC焼成炉
使用温度範囲が -10~60℃と広く、かつ温度変化による流量 制御への影響が小さく抑えられています。 炉内の雰囲気が安定するので焼成の品質も安定します。

ガス浸炭炉

ガス浸炭炉
圧力損失が小さいので、従来のマスフローコントローラでは困難だった供給圧の低いエンリッチガスの流量制御が可能です。 炉内雰囲気の制御性が向上し浸炭の品質が安定します。

培養装置

培養装置
多点流量補正機能により、現場校正時に基準流量計への合わせこみが行えます。 メーカへ現品を送る必要がないので、費用と納期を削減できます。

実験用途

実験用途
ACアダプタを使用することでコンセントから給電できます。 面倒な配線が不要です。 PCローダを使用すれば、PCから操作/モニタ/データロギングが可能です。 短時間で実験環境を構築できます。

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